Ellipsometrie und Rasterkraftmikroskopie an Polymerfilmen

Voraussetzung für Miniaturisierung, z.B elektronischer Bauteile in den nm-Bereich, oder die Funktionalisierung von Oberflächen für optische Anwendungen, bedarf der Kenntnis vorherrschender Grenzflächenphysik – eine Konsequenz aus der zunehmenden Dominanz von Wechselwirkungskräften auf der nm-Längenskala. Für die meisten Anwendungen sind Dicke und Oberflächentopographie von Beschichtungen die wichtigsten Charakteristika.

In diesem Versuch stellen sie selbstständig nm-dünne Polymerfilme aus gelöstem Polystryrol mittels Rotationsbeschichtung her und benutzen Ellipsometrie und Rasterkraftmikroskopie – zwei leistungsfähige Methoden moderner Labore – zu deren Charakterisierung.

Im Mittelpunkt stehen neben der theoretische Beschreibung der Polymerbeschichtung die Grundlagen und Funktionsweisen der Messmethoden. Ziel ist die Abhängigkeit der entstehenden Schichtdicken als Funktion von Polymerlösungskonzentration und Rotatationsgeschwindigkeit anhand eines theoretischen Modells vergleichend zu Diskutieren.